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外延应力调控（111）取向 La0.66Sr0.33MnO3 外延薄膜的物理性质

祁明群，吴真平（通信作者）

【摘要】系统地研究了用脉冲激光沉积法（P L D）在（111）取向 S r T i O3 单晶衬底上外延生长 La0.66S r0.33MnO3薄膜的电学和磁阻性能。利用综合物性测量系统（PPMS）测量研究了薄膜导电性和相应物性随薄膜厚度的变化规律。磁化和电阻作为温度函数的测量结果表明，从铁磁状态到顺磁状态的转变温度与薄膜厚度直接相关。电阻率(ρ(T)) 的温度依赖性已经用理论公式进行了拟合。在 3 T 的外加磁场下，在 200 K 下测量了 10 nm 厚膜的 34.5%的磁电阻。

【关键字】锰氧化物；电阻率；磁阻；居里温度；矫顽场