双层 UV 光致可剥离胶膜的制备及性能研究
周 健,侯 悦,李中秋
【摘要】针对当前先进封装领域中三维集成电路(3D⁃IC)面临的胶膜与芯片表面贴合不密实、残胶多的问题,本文提出了一种双层紫外(UV)光致可剥离胶膜解决方案,通过在聚酯(PET)基膜上依次涂布中间层树脂和黏结层树脂,形成胶膜总厚 50 μm 的双层结构,可实现瞬间填平和 UV 照射后零残胶的整片剥离。 实验结果表明:经 UV 辐照后,双层胶膜的 180°剥离力显著下降;显微镜显示,相较单层胶膜,双层胶膜对有划痕的硅片覆盖更紧密且无残胶,展现出较大的应用潜力。
【关键字】双层紫外(UV)可剥离胶膜;三维集成电路;丙烯酰吗啉;瞬间填平;无残胶
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