ISSN 1009-5624 CN 10-2021/TQ 主管:中国乐凯集团有限公司 主办:北京乐凯科技有限公司
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ISSN 1009-5624 CN 10-2021/TQ 主管:中国乐凯集团有限公司 主办:北京乐凯科技有限公司
【摘要】光刻胶在晶圆上旋涂的过程中，并不是所有的光刻胶都会留在晶圆上并参与成膜，大多数的光刻胶都会由于离心力的作用被甩到晶圆之外，部分残留在晶圆边缘，这些多余的光刻胶堆积在边缘形成隆起。 并且这部分光刻胶很容易发生剥离，进而对后续工艺产生污染或者导致设备的污染。 基于此，本研究采用一种边缘胶线的去除（ｅｄｇｅ ｂｅａｄ ｒｅｍｏｖａｌ，ＥＢＲ）方法，从而避免在后续工艺过程产生颗粒，或将光刻胶转移到其他设备上导致污染。 ＥＢＲ 的工艺调试过程中也会遇到很多问题，如边缘残留、边缘去胶均匀性差、清洗过程溶剂反溅等问题，本研究将对以上问题进行分析和讨论。
