ISSN 1009-5624 CN 10-2021/TQ 主管:中国乐凯集团有限公司 主办:北京乐凯科技有限公司
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ISSN 1009-5624 CN 10-2021/TQ 主管:中国乐凯集团有限公司 主办:北京乐凯科技有限公司
【摘要】光刻是集成电路制造工艺中最关键的一道工序，约占芯片制造时间的 ４５％。 光刻的工艺直接影响产品的良率，而光刻中 产生的缺陷是造成良率降低最直接的原因。 光刻胶的涂布是光刻的基础，对于某些挥发性极大的光刻胶或者底部抗反射涂层 （ｂｏｔｔｏｍ ａｎｔｉ⁃ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｃｏａｔｉｎｇ， ＢＡＲＣ）光阻来说，在涂胶过程当中，很容易产生球状缺陷（ｂａｌｌ ｄｅｆｅｃｔ），如果得不到好的控制，很容易影 响产品的质量。 本文将从球状缺陷的产生与控制两方面进行研究。
